Oberflächenchemie
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Oberflächenchemie (engl. surface chemistry, surface science) ist ein Teilgebiet der Physikalischen Chemie, bei dem die chemischen und strukturellen Vorgänge untersucht werden, die sich an Grenzflächen, meist fest/gasförmig, abspielen. Dabei werden oberflächensensitive analytische Methoden angewendet, für die in den letzten Jahrzehnten mehrere Nobelpreise vergeben wurden. Da die untersuchten Strukturen im Nanometerbereich liegen, zählt man die Oberflächenchemie zu den Nanowissenschaften.
[Bearbeiten] Anwendungsgebiete

Oberflächenanalytische Methoden werden in der Industrie und in der Grundlagenforschung eingesetzt.
- Heterogene Katalyse (z. B. Haber-Bosch-Verfahren zur Herstellung von Ammoniak)
- Halbleitertechnologie
- Brennstoffzellenforschung
- Abläufe an Elektroden bei elektrochemischen Reaktionen
- Nanoelektronik, d.h. Herstellung von elektronischen Bauteilen auf Nanometerskala
- Informationsspeicher mit hoher Speicherdichte
- Klebstoffe
- Beständige Beschichtungen von Oberflächen (z. B. Korrosionsschutz)
- Medizintechnische Anwendungen
- Materialforschung, z. B. atomare Zusammensetzung von Oberflächen-Legierungen
- Bestimmte biologische Fragestellungen
[Bearbeiten] Grundlagen
Als Oberfläche (engl.: surface) ist dabei der Bereich eines Festkörpers definiert, in dem sich die physikalischen und chemischen Eigenschaften (z. B. Struktur, elektronische Eigenschaften) vom Rest (engl.: bulk) unterscheiden, wobei die Abweichung von den Volumeneigenschaften f(x) i. a. exponentiell mit der Entfernung von der Oberfläche x abklingt (proportional zu f(x) = exp( − x)). Das Idealbild einer Oberfläche ist analog zum idealen Festkörper
- streng periodisch
- eine unendliche in 2 Raumrichtungen ausgedehnte Anordnung von Atomen oder Molekülen
[Bearbeiten] Bravaisgitter
Eine periodische Anordnung von Atomen oder Molekülen auf einer Oberfläche kann analog zum Festkörper in zwei Dimensionen mit einem Bravais-Gitter beschrieben werden. In 2 Dimensionen gibt es jedoch nur 5 Bravais-Gitter (in drei Dimensionen gibt es 7):
- quadratisch
- rechteckig
- rechteckig innenzentriert
- rautenförmig
- hexagonal
Wobei hexagonale oder rechteckig innenzentrierte Strukturen als Sonderfälle der rautenförmigen Struktur mit bestimmten Winkeln angesehen werden können.
[Bearbeiten] Einheitszelle
Eine Einheitszelle spiegelt die Symmetrie des Bravais-Gitter wider, es besitzt die selben Symmetrieelemente. Auf Grund der Periodizität des Gitters können die Einheitszellen durch einen Translationsvektor aufeinander abgebildet werden. Die Einheitszellen selbst werden durch linear unabhängige Einheitsvektoren
und
aufgespannt. Dabei gilt:
Man kann das Gitter auch in einen anderen Raum mit anderen Basisvektoren und
transformieren. Arbeitet man z. B. mit Beugungsmethoden, misst man die Einheitszelle im reziproken Raum, auch
Die Vektoren der Einheitszelle im Ortsraum können u. U. mittels Rastertunnelmikroskopie ermittelt werden. Die gemittelte Größe der Einheitszelle im reziproken Raum erhält man beispielsweise mit der Beugung langsamer Elektronen (LEED) an der Oberfläche.
Eine spezielle Art der Einheitszelle ist die Wigner-Seitz-Zelle. Ihr entspricht die Brillouin-Zone 1. Ordnung im k-Raum.
[Bearbeiten] Punkte und Geraden im Gitter
Ein Punkt P(x,y,z) im Gitter wird durch einen Vektor vom Ursprung zum Punkt beschrieben. Eine Gerade wird mit einem Vektor beschrieben, der parallel zur Gittergeraden liegt.
[Bearbeiten] Gitterebenen
Wenn ein Einkristall bricht, geschieht das häufig entlang der Gitterebene. Dadurch entstehen Oberflächen, die sich je nach 3-dimensionaler Kristallstruktur und Schnittrichtung in ihrer 2-dimensionalen Oberflächenstruktur unterscheiden. Die Schnittebenen können durch die Schnittpunkten a1,a2,a3 der Ebene mit den Achsen des Koordinatensystems beschrieben werden. Die gebräuchlichere Schreibweise ist allerdings die Angabe der Miller-Indizes h,k,l, die das ganzzahlige Vielfache der reziproken Achsenabschnitte sind. z. B. (111), (110), (100)
[Bearbeiten] Überstrukturen
Überstrukturen sind zusätzliche, größere Strukturen, die sich durch Umordnung oder Adsorption an der Oberfläche bilden. Sie können mit Vektoren a2 und b2 als Vielfache der Basis-Vektoren a1 und b1, durch die Woodsche Nomenklatur oder durch Matrixdarstellung beschrieben werden.
[Bearbeiten] Oberflächenpräparation
Bevor eine Oberfläche im mikroskopischen Maßstab reproduzierbar analysiert werden kann, muss sie von Verunreinigungen befreit werden. Um sie vor weiterer Kontamination zu schützen, wird sie im Ultrahochvakuum (UHV) () gehandhabt. Dadurch wird die Flächenstoßrate ni von auftreffenden Molekülen aus der Gasphase verringert. Diese ist
Mögliche Ursachen für Oberflächenkontamination sind z. B.:
- Adsorption von Luftmolekülen
- Wanderung von Teilchen aus dem Probeninneren an die Oberfläche
[Bearbeiten] Methoden zur Oberflächenreinigung
Werkstücke tragen nach der Bearbeitung (z. B. Schleifen, Drehen) im Allgemeinen Rückstände, wie Öle, Staub, Abrieb oder Schleifmittel. Diese Rückstände wirken sich meistens negativ auf die Bearbeitungsschritte aus und müssen daher entfernt werden. Typische Verfahren sind:
- Oxidation oder Reduktion der Oberfläche: Überführen der Verunreinigungen in flüchtige Verbindungen. Oxidation kann zur chemischen Umwandlung von Adsorbaten führen, die anschließend leichter desorbiert werden. Beispielsweise kann stark an eine Oberfläche gebundenes CO zu CO2 oxidiert werden, das auf Grund seiner chemischen Struktur nur noch schwach gebunden ist.
- Sputtern mit Argonionen: Beim Sputtern wird die Probe mit Ionen beschossen, die in einem elektrischen Feld beschleunigt werden. Allerdings bilden sich auf dem Substrat mehr oder weniger große „Krater“, die z. B. durch Heizen der Probe geglättet werden können.
- Tempern (Heizen der Probe): Beim Heizen der Probe auf eine bestimmte Temperatur (ca. 1000 K) kann sich das thermodynamsiche Gleichgewicht einstellen, dabei wird die Oberfläche minimiert, was einer Absenkung der Oberflächenenergie entspricht. Dabei können sich von der Temperatur abhängige Rekonstruktionen oder Strukturen bilden. Diese können in Domänen unterschiedlicher Orientierung vorliegen. Beim Tempern kann es außerdem zu Desorption von Adsorbaten kommen.
[Bearbeiten] Techniken zum Aufbringen von weiteren Schichten
Auf eine Oberfläche können weitere Schichten von Atomen oder Molekülen aufgebracht werden, um die Eigenschaften der Grenzfläche zu modifizieren. Dadurch lassen sich z. B. Halbleiterbauelemente in dreidimensionaler Form in einem integrierten Schaltkreis (IC) unterbringen, weil sie durch die Schichten getrennt werden. Ein in der Grundlagenforschung wichtiges Hilfsmittel ist die Chemisorption von Sondenmolekülen, deren Schwingungseigenschaften z. B. Informationen über die Oberfläche geben. Das Aufbringen der Schichten geschieht i. a. mit einer der folgenden Methoden:
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
- Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)
- Molekularstrahlepitaxie(MBE)
- Elektrochemie Abscheidung
- Oxidation der Oberfläche mit Sauerstoff
[Bearbeiten] Beispiele für Fragestellungen
- Elementare Zusammensetzungen von Oberflächen
- Konzentration von Elementen im Oberflächenbereich
- Verteilung von Elementen im Tiefenprofil der Oberfläche
- chemische Bindung von Adsorbaten
- Oxidationszustand von Oberflächenatomen
- Adsorptionskinetik
- Adsorptionsenergie
- Desorptionskinetik
- Struktur an der Grenzfläche
- Elektronische Struktur an der Grenzfläche
- Schwingungseigenschaften
- Mechanismen von heterogen katalysierten Reaktionen
- Modelle für katalytische Reaktionen und Entwicklung von industriellen Katalysatoren
- Untersuchung der Diffusion von Adsorbaten auf Oberflächen (Oberflächendynamik)
[Bearbeiten] Oberflächensensitive Methoden
Um die Vorgänge an Grenzflächen untersuchen zu können, müssen Methoden verwendet werden, die nur Prozesse in dem Bereich einer Probe „sehen“, der sich in seinen Eigenschaften vom restlichen Festkörper unterscheidet. Dazu werden die Wechselwirkungen von folgenden Wellen/Teilchen mit Materie genutzt:
Strahlung/Teilchen | mittlere freie Weglänge im Festkörper/Gas | Beispiele |
---|---|---|
Elektronen | klein (Coulomb-Wechselwirkung), abhängig von kinetischer Energie, siehe "Universelle Kurve" | |
Photonen | groß (keine Coulomb-Wechselwirkung) | UV-Strahlung, Infrarotstrahlung, Röntgenstrahlung |
neutrale Teilchen | keine, Umkehrpunkt vor Oberfläche | Helium-Atome, Wasserstoff-Moleküle |
Ionen | klein (Coulomb-Wechselwirkung) | |
magnetische Felder | groß | |
Wärme | groß |
Die mittleren freien Weglängen von geladenen Teilchen sind auf Grund von Coulomb-Wechselwirkungen i. a. viel kleiner als die von neutralen. Ein weiterer starker Einfluss ist die kinetische Energie der Teilchen; in bestimmten Energiebereichen können Prozesse angeregt werden, was die mittlere freie Weglänge verringert. Entscheidend für die Oberflächensensitivität einer Methode ist, dass entweder das mit der Probe wechselwirkende oder das detektierte Teilchen oder Welle eine geringe mittlere freie Weglänge in der Materie besitzt. Deshalb ist auch für viele Methoden ein Ultrahochvakuum nötig. Die gewählte Methode hängt dabei von der Fragestellung ab. Die folgende Übersicht soll nur einen Überblick geben. Für mehrere Methoden existieren auch verschiedene ortsauflösende Techniken. Für weitere Beschreibung siehe deren Artikel. Jede der Methoden hat Vor- und Nachteile, die beim Experiment berücksicht werden müssen.
[Bearbeiten] Mikroskopie
[Bearbeiten] Scanning Probe Microscopy (SPM)
Methode | Erhaltene Informationen | eingesetztes Teilchen/Welle | detektierte Größe/Teilchen/Welle | ausgenutzter Effekt |
---|---|---|---|---|
Rastertunnelmikroskop (STM) | Elektronische Zustandsdichte (LDOS) und Topographie an der Oberfläche im Ortsraum, Überstrukturen | Elektronen | Tunnelstrom/z-Position der Spitze | Tunneleffekt |
Rasterkraftmikroskop (AFM) | Topographie an der Oberfläche im Ortsraum | Schwingende Spitze (Cantilever) | Ablenkung eines Laserstrahls (Frequenz-, Phasen- und Amplitudenänderung) | Kraft zwischen AFM-Cantilever und Oberfläche (Pauli-Repulsion, van-der-Waals-Wechselwirkung) |
Nahfeldmikroskopie (SNOM) | ||||
Chemisches Kraftmikroskop (CFM) | ||||
Magnetkraftmikroskop (MFM) |
[Bearbeiten] Elektronenmikroskopie
Methode | Erhaltene Informationen | eingesetztes Teilchen/Welle | detektierte Größe/Teilchen/Welle | ausgenutzter Effekt |
---|---|---|---|---|
Transmissions-Elektronen-Mikroskopie (TEM) | Oberflächenstruktur im Ortsraum, Gleitebenen von Kristalliten auf der Oberfläche | Elektronen | Elektronen | Transmission von Elektronen durch eine dünne Probe |
Raster-Elektronen-Mikroskopie (SEM) | Oberflächenstruktur im Ortsraum, Gleitebenen von Kristalliten auf der Oberfläche | Elektronen | Elektronen | Abrastern der Probe mit Elektronenstrahl |
Raster-Transmissions-Elektronen-Mikroskopie (STEM) | Oberflächenstruktur im Ortsraum, Gleitebenen von Kristalliten auf der Oberfläche | Elektronen | Elektronen | Kombination aus TEM und SEM |
Röntgenmikroanalyse (XRMA) | ||||
Photoemissions-Elektronenmikroskopie (PEEM) | Magnetische Domänenstruktur im Ortsraum | Zirkular polarisierte Röntgenphotonen | Photoelektronen | Photoelektrischer Effekt, vergrößerte Darstellung der emittierten Photoelektronen auf einem Leuchtschirm |
[Bearbeiten] Feldinduzierte Mikroskopie
Methode | Erhaltene Informationen | eingesetztes Teilchen/Welle | detektierte Größe/Teilchen/Welle | ausgenutzter Effekt |
---|---|---|---|---|
Feldemissionsmikroskopie (FEM) | Abbildung der Struktur von Spitzen, keine atomare Auflösung | elektrisches Feld ionisiert Spitzenatome | emitierte Elektronen aus der Spitze auf Fluoreszenzschirm | Ionisation, Tunneleffekt |
Feldionenmikroskopie (FIM) | Abbildung der Struktur von Spitzen, atomare Auflösung | elektrisches Feld, Bildgas | Bildgas mit Fluoreszenzschirm | Ionisation des Bildgases, Tunneleffekt |
Felddesorption/Feldverdampfung | Abbildung der Struktur von Spitzen | elektrisches Feld | Adatome/Spitzenatome | Desorption von Adatomen der Spitze/Verdampfung von Spitzenmaterial |
Feldionenmassenspektrometrie | Zusammensetzung von Spitzen | elektrisches Feld, Bildgas | Molare Masse von Spitzenatomen durch Time-of-flight-Massenspektrometer (TOF) | Desorption von Atomen der Spitze, Unterschiedliche Flugzeit bei unterschiedlichen Massen im TOF |
[Bearbeiten] Spektroskopie
Bei der Spektroskopie handelt es sich allgemein um ein Verfahren bei dem ein Spektrum erzeigt wird, d. h., eine Intensität wird gegen eine der Energie äquivalenten Größe aufgetragen, z. B. Frequenz.
[Bearbeiten] Elektronenspektroskopie
Bei der Elektronenspektroskopie ist die Energie von Elektronen, diejenige Größe, die gegen die Intensität aufgetragen wird. Es gibt folgende Methoden:
Methode | Erhaltene Informationen | eingesetztes Teilchen/Welle | detektierte Größe/Teilchen/Welle | ausgenutzter Effekt |
---|---|---|---|---|
Röntgen-Photoelektronen-Spektroskopie (XPS) | Oxidationszustand und Konzentration von Elementen im Oberflächenbereich | Röntgen-Photonen | Photo-Elektronen | Photoelektrischer Effekt |
Auger-Elektronen-Spektroskopie (AES) | Oxidationszustand und Konzentration von Elementen im Oberflächenbereich | Röntgen-Photonen oder Elektronen | Auger-Elektronen | Auger-Effekt |
Ultraviolet-Photoelektronen-Spektroskopie (UPS) | Elektronische Struktur | Photonen im UV-Bereich | Photo-Elektronen | Photoelektrischer Effekt |
Metastabilen-Einschlag-Elektronenspektroskopie (MIES) | Elektronische Struktur | Metastabile Heliumatome | Auger-Elektronen | Abregung der metastabilen Atome an der Oberfläche; Auger-Effekt |
[Bearbeiten] Schwingungs-Spektroskopie
Methode | Erhaltene Informationen | eingesetztes Teilchen/Welle | detektierte Größe/Teilchen/Welle | ausgenutzter Effekt |
---|---|---|---|---|
Infrarotspektroskopie (IR) | Spektrum, Schwingungsmoden von Adsorbaten (oft Kohlenmonoxid als Sonde) | Infrarot-Photonen | Infrarot-Photonen | Schwingungsanregung von IR-aktiven Banden |
Ramanspektroskopie | Spektrum, Schwingungsmoden von Adsorbaten | VIS- ,NIR-Laser | Rayleigh/Raman-Streuung (VIS, NIR) | Schwingungsanregung von raman-aktiven Banden |
Elektronen Energieverlust-Spektroskopie (EELS) | Spektrum | Elektronen | Elektronen | Anregung von Prozessen im Festkörper: Phononenanregung, Plasmonenanregung, Ionisation |
[Bearbeiten] Ionen-Spektroskopie
Methode | Erhaltene Informationen | eingesetztes Teilchen/Welle | detektierte Größe/Teilchen/Welle | ausgenutzter Effekt |
---|---|---|---|---|
Ionen-Streu-Spektroskopie (ISS=LEIS) | Molare Masse der Oberflächenatome auf der äußersten Lage (qualitativ) | niederenergetische Ionen (oft positive Edelgas- oder Alkalimetallionen) | gestreute Ionen mit einem Massenspektrometer | Elastische Streuung von Ionen an der Oberfläche, Energie- und Impulserhaltung |
Sekundär-Ionen-Massenspektrometrie (SIMS) | Molare Masse der Atome im Tiefenprofil der Oberfläche (quantitativ) | Ionen (oft positive Edelgas- oder Metallionen) | Cluster und Fragmente der Oberfläche, gestreute Ionen mit einem Massenspektrometer | Sputtern der Oberfläche |
Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS) | Zusammensetzung der Oberfläche | hochenergetische Helium-Ionen | ||
Nukleare Reaktions-Analyse (NRA) | Zusammensetzung der Oberfläche | hochenergetische Ionen oder Neutronen | Zerfallsprodukte von Kernreaktionen | Kernreaktionen |
Sekundär-Neutralteilchen-Massenspektrometrie (SNMS) |
[Bearbeiten] Röntgen-Absorptions-Spektroskopie (XAS)
Methode | Erhaltene Informationen | engesetztes Teilchen/Welle | detektierte Größe/Teilchen/Welle | ausgenutzter Effekt |
---|---|---|---|---|
(Surface) Extended X-Ray absorption Fine Structure ((S)EXAFS=XANES) | Informationen über Nahordnung, Bindungslängen, Koordinationszahl | durchstimmbere Röntgen-Photonen (Synchrotronstrahlung) | Röntgen-Photonen | Interferenz von ursprünglichen Photoelektronen und an Nachbaratomen gestreuten Photoelektronen führen zu anderer Wahrscheinlichkeit für Photoelektrischen Effekt |
X-Ray Absorption near edge Structure (XANES=NEXAFS) | Informationen über Nahordnung, Elektronische Struktur, Oxidationszustand | durchstimmbere Röntgen-Photonen (Synchrotronstrahlung) | Röntgen-Photonen | wie EXAFS aber genauere Auflösung der in Absortionskantennähe |
Mößbauerspektroskopie | Zusammensetzung, Strukturinformationen, Oxidationszustände, Partikelgröße | Gammastrahlung (meist aus 57Co) | Gammastrahlung | Mössbauereffekt, Dopplereffekt |
[Bearbeiten] Weitere Spektroskopiearten
Methode | Erhaltene Informationen | engesetztes Teilchen/Welle | detektierte Größe/Teilchen/Welle | ausgenutzter Effekt |
---|---|---|---|---|
Raster-Tunnel-Spektroskopie (STS) | Zustandsdichte der Oberflächenregion im Ortsraum | Elektronen, Variation von Ort und Tunnelspannung | Tunnelstrom | Tunneleffekt |
[Bearbeiten] Beugung
Methode | Erhaltene Informationen | eingesetztes Teilchen/Welle | detektierte Größe/Teilchen/Welle | ausgenutzter Effekt |
---|---|---|---|---|
Beugung niederenergetischer Elektronen (LEED) | Oberflächenstruktur im reziproken Raum, Überstrukturen, 2-d-Fernordnung muss vorhanden sein | niederenergetische Elektronen | gebeugte Elektronen | Beugung |
Röntgenbeugung (XRD) | Gitterstruktur der gesamten Festkörpers im reziproken Raum, 3-d-Fernordnung muss vorhanden sein | Röntgen-Photonen | gebeugte Röntgenstrahlung | Beugung |
MEED | Monolagen-Wachstum in Abhängigkeit von der Zeit, Fernordnung bei voller Monolage muss vorhanden sein | Elektronen | gebeugte Elektronen | Beugung |
Reflection high energy electron diffraction (RHEED) | in-situ-Strukturanaylse während Deposition, Fernordnung muss vorhanden sein | Elektronen | Elektronen | Beugung mit kleinem Glanzwinkel |
[Bearbeiten] Kinetische Methoden
Methode | Erhaltene Informationen | eingesetztes Teilchen/Welle | detektierte Größe/Teilchen/Welle | ausgenutzter Effekt |
---|---|---|---|---|
Temperatur-programmierte Desorption (TPD) | Ordnung der Desorptions-Kinetik, Anzahl Teilchen pro Monolage | Wärme | Desorbierte Oberflächen-Teilchen | Desorption bei Temperaturerhöhung |
[Bearbeiten] Kombinationen
Bestimmte Strahlungsarten können mehrere Prozesse anregen, die für die jeweilige Methode Vor- und Nachteile bringen kann. Beispielsweise können bei Ionisation durch Röntgenstrahlung gleichzeitig Auger-Elektronen und Photoelektronen entstehen, die sich möglicherweise im Spektrum überlagern und so die Auswertung erschweren. Andererseits werden bei der TEM durch die zusätzliche Emission von Auger- und Photoelektronen, rückgestreute Elektronen, emittierte Partikel und EELS zusätzliche Informationen über die Probe in einer Apparatur gewonnen.
[Bearbeiten] Die „Big Four“
Als die „Big Four“ (dt. »die großen Vier«) werden die Messmethoden XPS, AES, SIMS und ISS bezeichnet.
[Bearbeiten] Nobelpreise für Entwicklungen in der Oberflächenchemie und Oberflächenphysik
Jahr / Fachgebiet | Person oder Einrichtung | Nationalität | Begründung für die Preisvergabe |
---|---|---|---|
1932 Chemie |
Irving Langmuir | ![]() |
„für seine Entdeckungen und Forschungen im Bereich der Oberflächenchemie“ |
1937 Physik |
Clinton Davisson und George Paget Thomson |
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„für ihre experimentelle Entdeckung der Beugung von Elektronen durch Kristalle" |
1981 Physik |
Kai Manne Siegbahn | ![]() |
„für seinen Beitrag zur Entwicklung der hochauflösenden Elektronenspektroskopie" |
1986 Physik |
Gerd Binnig und Heinrich Rohrer |
![]() ![]() |
„für ihre Konstruktion des Rastertunnelmikroskops" |
2007 Chemie |
Gerhard Ertl | ![]() |
„für seine Studien von chemischen Verfahren auf festen Oberflächen“ |
2007 Physik |
Albert Fert und Peter Grünberg |
![]() ![]() |
„für die Entdeckung des Riesenmagnetwiderstands (GMR)" |
[Bearbeiten] Verwandte Themengebiete
[Bearbeiten] Siehe auch
- Aktives Zentrum
- Dispersion
- Dosis (Oberflächenchemie)
- Ensemble-Effekt
- Epitaxie
- Fraktale Strukturen, Selbstähnlichkeit
- Langmuir (Einheit)
- Haftkoeffizient
- Langmuir-Hinshelwood-Mechanismus, Eley-Rideal-Mechanismus, Mars-van-Krevelen-Mechanismus
- Paarkorrelation
- Pressure-Gap, Material-Gap
- Schichtwachstum (Frank-van-der-Merve-Wachstum, Stranski-Krastanov-Wachstum und Volmer-Weber-Wachstum)
- Kristallwachstum, Kristallisationskeim
- Selfassembling Monolayers (SAM)
- Top-down und Bottom-up
- Knudsenzelle
- Schwoebel-Effekt
[Bearbeiten] Literatur
[Bearbeiten] Bücher
- G. Ertl, J. Küppers: Low Energy Electrons and Surface Chemistry. 2. Auflage. Verlag Chemie, Weinheim 1985, ISBN 3-527-26056-0 (1. Auflage 1974).
- Gabor A. Somorjai: Introduction to Surface Chemistry and Catalysis. Wiley, New York 1994, ISBN 0-471-03192-5 (Englisch).
[Bearbeiten] Artikel
- Gerhard Ertl: Reaktionen an Oberflächen: vom Atomaren zum Komplexen (Nobel-Vortrag). In: Angewandte Chemie. 120, Nr. 19, 2008, S. 3578-3590 (doi:10.1002/ange.200800480).
[Bearbeiten] Zeitschriften
- Surface Science, Elsevier
- Surface Science Letters, Elsevier
- Surface Science Reports, Elsevier
- Surface Science Spectra, Elsevier
- Applied Surface Science, Elsevier
- Progress in Surface Science, Elsevier
- Applications of Surface Science, Elsevier
[Bearbeiten] Vorträge
- Richard Feynman: „There’s Plenty of Room at the Bottom“. Caltech, 1959. (Siehe auch Beitrag in der englischen Wikipedia)