光阻
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光阻,亦稱為光阻劑,是一個用在許多工業製程上的光敏材料。像是光刻技術,可以在材料表面刻上一個圖案的被覆層。
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[编辑] 光阻的類別
光阻有兩種,正向光阻(positive photoresist)和負向光阻(negative photoresist)
- 正向光阻是光阻的一種,其照到光的部分會溶於光阻顯影液,而沒有照到光的部份不會溶於光阻顯影液。
- 負向光阻是光阻的一種,其照到光的部分不會溶於光阻顯影液,而沒有照到光的部份會溶於光阻顯影液。
[编辑] 在紫外線和短波長的吸收
光阻通常使用在紫外光波段或更小的波長(小於400奈米)。例如DNQ在300奈米到450奈米間有很強的吸收。
[编辑] 電子束曝光
[编辑] DNQ-Novolac photoresist
[编辑] DUV photoresist
[编辑] Chemical amplification
[编辑] 參考文獻
- D. van Steenwinckel et al., J. Vac. Sci. Tech. B, vol. 24, 316-320 (2006).